传统清洗方法面对ITO导电玻璃的清洗要求存在明显不足:人工擦拭易产生划痕和静电;普通超声波清洗难以去除亚微米粒子;而常规漂洗后的水渍残留又会影响薄膜均匀性。精密电子元件的制造需要一种能实现全方位、无损伤、超高洁净度的清洗解决方案。
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