光的散射特性对高端光学表面、膜层和材料的发展起着至关重要的作用。对于光学表面,常常用粗糙度来确定光学表面受散射影响后的光学特性。对于诸如不均匀体、亚表面损伤和局部缺陷的散射常常会忽略掉,而这些来源的散射对系统有很大的影响,所以需要一个能在终端借测散射性质的仪器来解决这一问题。
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