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型号OTF-1200X-S-HPCVD产品概述TF1200X-S- HPCVD是款坩可在炉管内移动（靠步进电机控制）的小型开启式管式炉。炉管外径为50mm设备最高工作温度为1200℃C，通过能数字控制控制样品台或坩娲在片管内的位置和温度。此设螽可进行快速热处理，例混合物理化学沉积（ HPCVD），快速热蒸发（RTE），以及在各种气氛下进行的水平布里奇曼最体生长 （HDC），用于新代最体研究。
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