日本 KST 株式会社成立于 1998 年，作为日本首家设计并加工半导体及光通信用硅晶圆以及膜产品的公司，KST 株式会社依赖领先的热氧化技术可以为客户提供超厚氧化膜的晶圆产品，这些产品能够帮助客户开发新型光通信及 MEMS 器件，并能够极大的提升量产良率。

SOI 晶圆

SOI 晶圆利用了 KST 独特的厚热氧化膜技术特点，是具有压力传感器等膜片结构的MEMS 设备的最佳选择。