日本 KST 株式会社成立于 1998 年，作为日本首家设计并加工半导体及光通信用硅晶圆以及膜产品的公司，KST 株式会社依赖领先的热氧化技术可以为客户提供超厚氧化膜的晶圆产品，这些产品能够帮助客户开发新型光通信及 MEMS 器件，并能够极大的提升量产良率。

超厚热氧化膜晶圆

日本KST拥有独特的厚热氧化膜加工工艺，使热氧化膜厚度快速超过20um。应用于 MEMS，半导体功率器件等方向。