ELLIP-SR-Ⅱ型产品是本公司自主研发拥有专利技术并集光机电于一体高精度高稳定全自动椭圆偏振光谱仪。仪器状态调整、参数设置、数据采集一直到数据处理，均通过计算机自动完成，方便用户使用。可工作于从紫外至近红外的宽广光谱区，波长连续可调，仪器主体采用高强度钢铝材料架构，入射角度从20度到90度内由电脑控制自动连续可调。

      主要适用于科研院所的信息光电子功能薄膜、体材料的光学性质和结构特性研究，可被研究材料种类包括：金属和合金、元素和化合物半导体、绝缘体、超导体、磁性和磁光材料、有机材料、太阳能薄膜、多层薄膜材料、液体材料等。在测量中，可按研究条件同时对入射角和波长进行自动精细扫描，从而增加研究的灵活性，便于用户获得更多的光谱信息进行数据分析，提高研究的质量和可靠性，并实现无接触无损伤测量。

      该系列光谱仪的性能指标达均已达到国际同类技术的先进水平，产品畅销国内及海外市场。

主要技术参数：

波长范围：250-830nm，  250-1100nm，  250-1700nm ， 250-2100nm 。

光源：超静氙灯

波长分辨率：1.0nm

入射角范围： 20-90度

光学常数精度 优于0.5％

样品台：Ø 80 mm

样品装载方式：吸附

测量模式：反射式绝对光谱值

测量方式：自动完成AC信号测量

实测光学常数种类：复折射率( n, k )；

反射率R

膜厚精度：  ±0.1nm

椭偏参数精度： D±0.02度；Y±0.01度

*选配：独有微光斑技术（国内唯一）。

主要特点

WINXP友好操作界面

电脑控制自动改变入射角，可提高入射角精度，无需手动改变。

实测光学常数种类：复折射率、复介电函数、吸收系数、反射率。

主要用途

1.各种功能材料的光学常数测量和光谱学特性分析；

2.测量薄膜材料的折射率和厚度； 测量对象包括：金属、半导体、超导体、绝缘体、非晶体、超晶格、磁性材料、光电材料、非线性材料；测量光学常数：复折射率的实虚部、复介电常数的实虚部、吸收系数a、反射率R。