ELLIP-ER-III型产品是本公司研制的固定波长手动可变入射角激光椭圆偏振仪，广泛适用于大学教学和科研及太阳能领域，可用于研究金属、非晶体、太阳能材料、非线性材料等。是一款高性价比、高集成、高稳定及操作简便易用的普及型纳米级薄膜厚测试分析仪器。

主要技术参数

波长光源 ：  650nm（半导体激光器）,  632.8nm（氦氖激光器）。

入射角范围： 20-90度（每5度间隔）

样品台：Ø110 mm （可配三维样品台）

测量模式：  反射

测量方式：  自动完成信号测量

膜厚精度：  ±0.5nm （薄膜厚度在10-100nm时）

系统定标方式 ： 自洽、绝对定标。

主要特点

WINXP友好操作界面

实测光学常数种类：复折射率、复介电函数、吸收系数、反射率。

主要用途

1.各种功能材料的光学常数测量和光谱学特性分析；

2.测量薄膜材料的折射率和厚度； 测量对象包括：金属、半导体、超导体、绝缘体、非晶体、超晶格、磁性材料、光电材料、非线性材料；测量光学常数：复折射率的实虚部、复介电常数的实虚部、吸收系数a、反射率R。