产品简介：
         监控薄膜沉积最强有力的工具
用F30光谱反射率系统可以实时测量沉积率、沉积层厚度、光学常数(n和k值)和半导体以及电介质层的均匀性。
样品层
         分子束外延（MBE）和金属有机化学气相沉积（MOCVD）可以测量平滑和半透明的，或者轻度吸收的薄膜。这实际上包括从氮化镓铝（AlGaN）直至镓铟磷砷（GaInAsP）的任何半导体材料。
产品特性：
         极大地提高生产率
         快速—几秒钟完成测量
         精确—测量精度高于±1%a
         低成本—几个月就能回收其自身的成本
         非侵入式—测试完全在沉积室以外进行
         易于使用—直观的 Windows™ 软