主要用于多层膜的镀制,可制作各种滤光膜、反射膜、透射膜。

根据需要可以增加或提高配置,如真空系统选用分子泵、低温泵;真空室配低温捕集器;膜厚控制采用石英晶体膜厚控制仪;辅助镀膜采用离子源、RF射频轰击等。

型号  参数

ZZSX-500

ZZSX-700

ZZSX-800

ZZSX-1100

ZZSX-1200

ZZSX-1350

结构形式

箱式前开门后置抽气系统

真空室尺寸  宽×深×高/mm

500×500×680

700×700×860

800×800×1000

1100×1100×1200

Φ1200×1200

Φ1350×1240

极限压力/Pa

≤5×10-4Pa

抽气时间/min

从1×105Pa抽至2×10-3Pa≤20

蒸发源

e型270磁偏转电子枪

加速电压/KV

6,10两档可切换



数量/套

1

1(根据用户需要可安装2套)



功率/kv

6

10



坩埚容积/ml及穴数

20×4(或110环形坩埚)

22×4(或120环形坩埚)


电阻加热式

电压/v

5,10



功率/kw

2.5

5



水冷电极/对数

2/交替蒸发

工件架类型及尺寸/mm

整体拱形夹具Φ460

4片拱形夹具Φ650

4片拱形夹具Φ740;行星夹具Φ450×3任选一种

4片拱形夹具Φ1000;行星夹具Φ770×3任选一种

4片拱形夹具Φ1100

4片拱形夹具Φ1240

工件烘烤

功率/kw

4.5

4.5

9

13.5


温度/℃

350

直流离子轰击

最高电压/v

3400


额定功率/kw

1

1.5

真空系统配置

K-400油扩散泵系统

KT-500油扩散泵系统

K-600油扩散泵系统

KT-600油扩散泵系统

K-800油扩散泵系统

双套K-600油扩散泵系统

光学镀膜控制

光纤光路,透,反射控制,波长380nm-760nm(可扩展至380nm-1100nm)

水冷

水压/Pa

~2.5×105Pa


水温/℃

<25

压缩空气/Pa

(5-8)×105Pa

总功率/kw

22

25

35

46

54

56

占地面积/mm长×深×高

2600×2500×1900

2800×2700×2100

3200×3200×2400

3500×3600×2600

4000×3600×2600

4200×4000×2800