主要用于非晶硅太阳能电池的研究和制作

能在真空环境下连续处理多种CVD工艺过程


团簇型多室CVD沉积系统

Cluster Multi-chamber CVD Deposition System


技术参数Parameter

真空室尺寸

Vacuum chamber size

主真空室尺寸:Server chamber

Φ760×270mm

工作真空室尺寸:

Workstation chamber

PECVD

250×250×300mm

VHFCVD

510×250×300mm

HWCVD

550×250×300mm

进出片室尺寸;Loading chamber

250×286×300mm

主真空室工位数:

Server position of server chamber

6

工作真空室数:

Number of Workstation chamber

5

真空系统

Vacuum system

传输室:Server chamber

F150+D30C

工作真空室:

Workstation chamber

F100+D30C

进出片室:Loading chamber

D30C

极限压力

Ultimate pressure

传输室:Server chamber

5×10-4Pa

工作真空室:

Workstation chamber

5×10-5Pa

进出片室:Loading chamber

5×10-1Pa

工件尺寸

Substrate size

工件最大尺寸:

Maximum diameter

100×100mm

工件最大重量:Maximum weight

2kg

最大同时处理数量:

Maximum loading capacity

4

操作

Operation

全自动+计算机流程控制

Fully automatic computer control

PLC控制

PLC control

气路控制系统

Gas system

全套进口件气路 16路进口流量计  进口变通导阀门

9路气体(N2ArSiH4NH3NOXTMBB2H6CH4CO2

Imported gas path,16-ways imported MFC,imported alterable valve 9 routes

(N2ArSiH4NH3NOXTMBB2H6CH4CO2 )