国际先进的采样方法、高稳定的核心器件、高质量的设计和制造工艺实现并保证了能够测量原子层量级的纳米薄膜，膜厚精度达到0.05nm。
快速椭偏采样方法、高信噪比的信号探测、自动化的测量软件，在保证高精度和准确度的同时，10秒内快速完成一次全光谱椭偏测量。
膜厚范围从次纳米量级到10微米左右。
对于常规操作，只需鼠标点击一个按钮即可完成复杂的测量、建模、拟合和分析过程，丰富的模型库和材料库也同时方便了用户的高级操作需求。
ES03适合于科研和工业产品环境中的新品研发或质量控制。
ES03系列多种光谱范围可满足不同应用场合。
ES03可用于测量光面基底上的单层和多层纳米薄膜的厚度、折射率n及消光系数k。应用领域包括：微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁介质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。
典型应用如：
平板显示：TFT、OLED、等离子显示板、柔性显示板等；
功能性涂料：增透型、自清洁型、电致变色型、镜面性光学涂层，以及高分子、油类、Al2O3表面镀层和处理等；
生物和化学工程：有机薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子层、薄膜吸附、表面改性处理、液体等
ES03也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。应用领域包括：固体（金属、半导体、介质等），或液体（纯净物或混合物）。典型应用包括：
玻璃新品研发和质量控制等。
项目 | 技术指标 |
光谱范围 | U：245 – 1000nm UI：245 – 1700nm |
光谱分辨率 | 优于1.5nm |
单次测量时间 | 全光谱ψ / Δ值测量，典型测量时间10 秒 |
准确度 | δ(Psi): 0.02 ° ,δ(Delta): 0.04° （90°透射模式测空气时） |
膜厚测量重复性（1） | 0.05nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层) |
折射率测量重复性（1） | 1x10-3 (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层) |
入射角度 | 40°－90°，手动调节，步进5°，准确度优于0.02 ° |
椭偏操作原理 | PSCA 模式：P:起偏器，S:样品，C:补偿器，A:检偏器 |
载物台 | 可放置样品的最大尺寸为 8 吋 |
样品方位调整 | 高度调节范围：0-10mm |
二维俯仰调节：±4° | |
样品对准 |
自准直望眼镜&显微镜，用于精密样品对准（高度和倾斜度） |
软件 | •多语言界面切换 |
•预设项目供快捷操作使用 | |
•安全的权限管理模式（管理员、操作员） | |
•方便的材料数据库以及多种色散模型库 | |
•丰富的模型数据库 | |
选配件 | 自动扫描样品台 真空吸附泵：用于吸附轻薄样品 聚焦透镜 遮光防尘配件 |
注：(1)测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次所计算的标准差。
2012-09-14：ES03取代原型号ES01/D。