特点：

• 高精度、高稳定性

• 一体化集成设计

• 快速、高精度样品方位对准

• 多入射角度测量

• 快速反应过程的实时测量

• 操作简单

• 丰富的材料库及物理模型

• 强大的数据分析和管理

应用领域：

• 可对纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k进行快速、高精度、高准确度的测量，尤其适合于科研和工业产品环境中的新品研发

• 可用于表征单层纳米薄膜、多层纳米层构膜系，以及块状材料（基底）。

• 应用领域涉及纳米薄膜的几乎所有领域，如微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、电化学、磁介质存储、聚合物及金属表面处理等。

性能保证：

• 高稳定性的He-Ne激光光源、高精度的采样方法以及低噪声探测技术，保证了系统的高稳定性和高准确度

• .高精度的光学自准直望远系统，保证了快速、高精度的样品方位对准

• 稳定的结构设计、可靠的样品方位对准，结合先进的采样技术，保证了快速、稳定测量

• 分立式的多入射角选择，可应用于复杂样品的折射率和绝对厚度的测量

• 一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空间

• 专用软件方便纳米薄膜样品的测试和建模。
  

技术指标：

可选配件：

• NFS-SiO2/Si二氧化硅纳米薄膜标片

• NFS-Si3N4/Si氮化硅纳米薄膜标片

• VP01真空吸附泵

• VP02真空吸附泵

• 样品池