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EM13LD系列适合于普通精度要求的科研和工业环境中的新品研发或质量控制。
EM13LD系列可用于测量单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k；可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；可用于实时测量快速变化的纳米薄膜的厚度、折射率n和消光系数k。
EM13LD可应用的纳米薄膜领域包括：微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。可应用的块状材料领域包括：固体（金属、半导体、介质等），或液体（纯净物或混合物）。

项目	技术指标
仪器型号	EM13 LD/635 (或其它选定波长)
激光波长	635 nm (或其它选定波长，高稳定半导体激光器)
膜厚测量重复性^（1）	0.5nm (对于平面Si基底上100nm的SiO₂膜层)
折射率测量重复性^（1）	5x10^-3(对于平面Si基底上100nm的SiO₂膜层)
单次测量时间	与测量设置相关，典型3s
最大的膜层范围	透明薄膜可达1000nm 吸收薄膜则与材料性质相关
光学结构	PSCA（Δ在0°或180°附近时也具有极高的准确度）
激光光束直径	2mm
入射角度	40°-90°可手动调节，步进5°
样品方位调整	Z轴高度调节：±6.5mm 二维俯仰调节：±4° 样品对准：光学自准直和显微对准系统
样品台尺寸	平面样品直径可达Φ170mm
最大外形尺寸	887 x 332 x 552mm (入射角为90º时)
仪器重量（净重）	25Kg
选配件	水平XY轴调节平移台，真空吸附泵
软件(ETEM)	* 中英文界面可选 * 多个预设项目供快捷操作使用 * 单角度测量/多角度测量操作和数据拟合 * 方便的数据显示、编辑和输出 * 丰富的模型和材料数据库支持

注：(1)测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次所计算的标准差。