快速在线镀膜样品测量
可对样品进行快速在线监测，实时反馈镀膜的真实信息。
系统可选的灵活配置
根据用户实际检测需求，可灵活选用激光椭偏仪、光谱椭偏仪部件等进行系统配置。
原子层量级的膜厚分析精度
采用非接触、无破坏性的椭偏测量技术，对纳米薄膜达到极高的测量准确度和灵敏度，膜厚测量灵敏度可达到0.05nm。
简单方便安全的仪器操作
用户利用专业测量软件可方便地进行实时监测，丰富的模型库、材料库方便用户进行高级测量设置。
ETSys-InLine 适合于多种镀膜机在线纳米薄膜的测量。
ETSys-InLine 可用于测量纳米薄膜样品上单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k；
ETSys-InLine 可用于测量块状材料的折射率n及消光系数k；
ETSys-InLine 可应用于：
真空离子蒸发镀膜机
薄磁控溅射镀膜机量
ALD原子层沉积镀膜机
MBE分子束外延镀膜机
PLD激光溅射沉积镀膜机
项目 | 技术指标 |
系统型号 | ETSys-InLine |
结构类型 | 在线式 |
探头形式 | 激光椭偏仪或光谱椭偏仪 |
膜厚测量重复性（1） | 0.1nm (对于Si基底上100nm的SiO2膜层) |
折射率n测量重复性（1） | 5x10-4 (对于Si基底上100nm的SiO2膜层) |
样品放置 | 镀膜机内 |
入射角度 | 根据实际设计 |
测量速度 | 对于激光椭偏仪，典型0.2s~0.6s |
软件 | 多语言见面切换 预设项目供快捷操作使用 运安全的权限管理模式（管理员、操作员） 方便的材料数据库以及多种色散模型库 丰富的预设模型数据库 |
注：（1）测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次所计算的标准差。
高性能器件、高精度的采样方法，保证了系统的高准确度
稳定可靠的结构设计，保证了系统的长期稳定性
与镀膜机集成式的一体化设计集成式的结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高
专业的在线软件设计以及丰富的物理模型库和材料数据库，方便用户使用