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仪器采用消光法椭偏测量原理，易于操作者理解和掌握椭偏测量基本原理和过程。

采用水平放置样品的方式，方便样品的取放。

集成一体化设计，简洁的仪器外形通过USB接口与计算机相连，方便使用。

采用激光作为探测光波，测量波长准确度高。

可测量纳米薄膜的膜厚和折射率；块状材料的复折射率、样品反射率、样品透过率。

仪器软件可自动完成样品测量，并可进行方便的测量数据分析、仪器校准等操作。

软件中设置了用户使用权限（包括：管理员、操作者等模式），便于仪器管理和使用。

利用本仪器，可通过适当扩展，完成多项偏振测量实验，如马吕斯定律实验、旋光测量实、旋光等。

EX2适合于教学中单层纳米薄膜的薄膜厚度测量，也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。

EX2可测量的样品涉及微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等领域。

项目	技术指标
仪器型号	EX2
测量方式	自动测量
样品放置方式	水平放置
光源	He-Ne激光器，波长632.8nm
膜厚测量重复性^*	0.5nm (对于Si基底上100nm的SiO₂膜层)
膜厚范围	透明薄膜：1-4000nm 吸收薄膜则与材料性质相关
折射率范围	1.3 – 10
探测光束直径	Φ2-3mm
入射角度	30°-90°，精度0.05°
偏振器方位角读数范围	0-360°
偏振器步进角	0.014°
样品方位调整	Z轴高度调节：12mm 二维俯仰调节：±4°
允许样品尺寸	圆形样品直径Φ120mm，矩形样品可达120mm x 160mm
配套软件	* 用户权限设置 * 多种测量模式选择 * 多个测量项目选择 * 方便的数据分析、计算、输入输出
最大外形尺寸	（入射角度70°时）550375260mm
仪器重量（净重）	约15Kg
选配件	* 半导体激光器

注：(1)测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次所计算的标准差。