一、产品介绍
这是一款多功能的真空气氛烧结炉，既可以用于材料的快速升降温退火，也可用于化学气相沉积（CVD）法，在镍或铜箔上制备石墨烯的制备，稍加调整，一机多用，被广泛的应用各研究院所。
加热系统采用环形红外短波加热器，最快升温速率可达300℃/S，测温采用精准的S型贵金属热电偶直接测量式样表面，使加热工件（式样)的温区更加均匀准确，控制界面采用大尺寸触摸屏，傻瓜智能式操作，可预设置十条温度曲线。控制数学模型采用先进的PID自学习模糊双闭环控制模式，使控温精度在快速升温的恒温状态仍能保持在±3℃，经过长期多次的各种试样试验验证，已被应用于半导体器件研发及生产等领域，广泛满足离子注入后的快速退火，欧姆接触快速合金，硅化物合金退火，氧化物生长，铜铟镓硒光伏应用中的硒沉积及其它快速热处理工艺的要求。
二、技术参数
产品型号 | YRTP-1100 |
炉体结构 | 双层壳体结构，高精度移动平台 |
额定温度（℃） | 1100 |
使用温度（℃） | ≤1000 |
温场均匀性（℃） | ±3℃ |
温度状态工艺时间（S） | 2~100（100~1000℃） |
最快升温速率（℃/S） | 200 |
降温速率（℃/S） | 1~200（通氮气，速率更快） |
温度控制模式 | 智能模糊全闭环PID控制 |
操作方式 | 触摸屏控制 |
超高温状态检测 | 软件检测出温度信息出现高温异常时，切断主回路 |
触摸屏尺寸 | 7"LED |
最大功率（KW） | 15 |
额定电压 | AC380~400V，50HZ（60Hz定制） |
传感器类型 | S型单铂铑 |
反应腔室内径尺寸 | Φ100X200 |
式样有效空间 | 4" |
真空系统 | 选配 |
预留真空抽口 | KF16 |
进出气接口 | Φ6卡套 |
尺寸重量 | 长1000×深600×高600mm；净重：约50kg |