一、RTP电光晶体


RTP(铷氧钛基磷酸盐)是一种坚固的电光晶体,适用于各种应用(如Q开关,振幅和相位调制器,脉冲选择器等)和工业,医疗和国防产品。该晶体在最常见的可见光和近红外激光波长下是透明的。它在宽温度范围(从-50°C+70°C)和高重复率下表现良好。基于RTPQ开关器件以匹配对配置提供,温度补偿设计。当用于诸如Q开关和幅度调制器的应用时,晶体被安装使得输入光束沿面的对角线偏振。

Features:

ü  低半波电压                             

ü  高损伤阈值

ü  非吸湿性

ü  在高重复率下的最小振铃

ü  在宽温度范围内工作



Technical Specifications:

Single Crystals 

Matched Pair

EO-Cell:

每个晶体的长度(L):+/- 0.5mm
宽度(W):+/- 0.05mm
垂直度:<20 arc min

平行度:<10 arc sec

划伤/挖掘:10/5 in the clear
光圈
倒角:<0.2 mm x 45°+/- 5°
电极: Ti on Zsides
标记: polarity of Zaxis (+) on the

side surface
AR / AR
涂层:R <0.1
损伤阈值:> 600 MW/cm2
@ 1064nm
10ns
侧面精细<30 um

长度匹配+/- 0.002毫米
消光比:在工作波长测量的平行/交叉偏振器之间的匹配对的透射比。
V
型槽中的晶体在Z轴(+)和( - )之间为90°。

光偏振垂直或水平
角度调节公差:1.5
透射率:> 98.5

电线类型:ET1828
线长:150mm 
总电容:2.0-3.0pF(晶体长度5mm)和3.0-4.0pF(晶体长度10mm



Part Number Convention

Notes:

Ø   半波电压(HWV)为额定+/- 15%。

Ø   匹配对晶体,未安装,提供作为标准组。 只需在零件号中用M代替Q即可

Ø   标准产品有其他尺寸和交替波长。 检查与Raicol的综合列表。

Ø   标准消光比为20dB23dB25dB27dB30dB。联系Raicol了解更多详情。



二、RTP高重频电光Q开关

RTP(铷钛氧磷酸盐-RbTiOPO4)晶体材料结合了KD*P和铌酸锂的几个特性,并且具有超过两者的一个主要优点:RTP表现出几乎没有压电效应,不受压电振荡的影响,适合高重复频率应用(最大100KHz)。可以在高重复频率锁模激光脉冲提取,激光脉冲切割,斩波和门控系统以及Q开关应用中使用RTP器件。

RTP具有350nm4300nm的有用光波长范围。在4001100nm范围内的透射率,具有硬的“V”型高效防反射涂层为98.5%。目前,标准AR波长为1064nm700-900nm。可提供其他波长的AR涂层。


RTP高重频电光Q开关



RTP普克尔盒和RTP电光Q开关的消光比在633nm时测得的数值是2001,波长畸变小于1/8波长。RTP电光调制器在较宽的温度范围内表现出优异的热稳定性,RTP电光Q开关电光系数在10-50摄氏度的范围内受温度影响很小。RTP电光调制器的激光损伤阈值大约为850MW/cm2 @10ns, 1064nm.对于激光脉冲的拾取/脉冲选通应用而言,对于脉宽小于100皮秒的激光脉冲,损伤阈值大约为10GW/cm2.

Model Number

1147-4

1147-6

1147-8

Aperture Diameter, mm

3.5

5.5

7.5

Crystal Material

RTP (rubidium titanyl phosphate - RbTiOPO4)

Peak Optical Power Density Capability                              (Uniform Beam, no Hot Spots)

850 MW/cm2 for pulses <10 nsec wide             10 GW/cm2 for pulses <100 psec wide

8 Range for Peak Power Density

400-1300nanometers

Transmission

>98% from 400 nm to 1064 nm

1/2 Wave Retardation Voltage, Volts   

@ 633 nm

800

1200

1800

@ 800 nm      

1100

1650

2475

@1064nm

1600

2400

3600

Extinction Ratio, with Full Aperture Beam

>200:1 at 633 nanometers

Rise Time, picoseconds

<350

Capacitance, picofarads

<5

Weight, grams (approximate)

125