产品简述：
       该设备采用热丝法化学气相沉积技术，主要用来生长金刚石膜、类金刚石膜、氮化硅和氧化硅膜等。该设备适合于科研、教学和生长大尺寸片状多晶金刚石厚膜、刀具表面生长金刚石膜中试应用。
设备特点：
★旋转升降结构平稳，样品台水平度好，利于生长较均匀厚膜；
★丝架采用特殊结构，热丝的平行度好能长期稳定工作；
★更合理的气路布局及更贴合生产工艺的细节考虑，保证设备能很快出成果。
技术指标：

名称PD-450热丝化学气相沉积设备
型号定制
沉积室尺寸Φ450×H350mm
基片台尺寸Φ200
基片台升降100mm
基片台转速0-5转/分（可调）
热丝温度1800℃-2500℃
衬底温度600℃-1000℃
制膜种类金刚石厚膜、类金刚石膜、氮化硅和碳化硅膜等。
电源型式专用热丝电源  300-650A
真空室结构立式前开门结构，后置抽气系统，双层水冷。
极限真空1.3×10-1 Pa
真空系统组成机械泵+维持泵
真空测量方式两低一高数显复合真空计、薄膜压力计。
真空控制方式手动按钮控制或PLC+触摸屏自动控制
工艺气体控制方式4路工艺气体流量控制及显示系统
报警及保护对泵、样品台等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施。