scia Systems
德国scia Systems 公司由德国VON ARDENNE 完全控股，并以客户需求为导向，为全球研发并提供太阳能光伏、薄膜沉积、微工艺制造及光学产业领域的设备及解决方案。其核心人员均在本行业从事研发工作超过20 年，曾经为Zeiss、Asphericon、ESO（欧洲南方天文台）, 夫琅禾费研究所等世界知名的光学公司或研究项目提供设备。公司在离子束薄膜沉积、等离子体薄膜沉积、高精密离子束加工方面都具有极高的成就，使其所提供的设备及方案大多以超高精尖的光学加工、光学薄膜沉积（X 射线，EUVL 等）为主，解决客户遇到的极其复杂的难题。
等离子体源及离子源
微波等离子体源 RF射频等离子体源 电容耦合等离子源
考夫曼型离子源 RF射频离子源 微波ECR离子源
RF37-i 离子源参数
法兰尺寸：DN 100 CF RF37-e 内部安装RF37-i
真空线缆长度：800 mm
离子源尺寸 ：直径：101 mm 长度: 232 mm
离子源出射口径 ：ф37 mm
放电腔材料 ：Al2O3 , 99.7% purity
栅网材料 ：石墨 钼
激发原理 ：ICP Plasma, 13.56 MHz
工作压强 ：8 x 10-5 mbar … 8 x 10-4 mbar
气体流量 ：3 … 6 sccm
最大离子束流 ：80 mA ( 约 25 mA/cm2 )
离子束直径 (FWHM) ：7…16 mm FWHM
◆ 亦可根据需求提供条形离子源
双离子束溅射薄膜沉积系统（DIBS）scia Coat 500
基底尺寸 ：直径 200 mm load-lock 自动装载 300 x 530 mm 手动装载
离子源类型 ：条形微波源 ECR-source
中和器 ：离子桥中和 N-DC
靶材夹具 : 6 种靶材转鼓 ( 可倾斜),400 x 200 mm2
参考沉积速率（Si ）: 10 nm/min
机械运动装置 : 样品直线运动速率0.01mm/ min 到 15mm/min
样品转动角速度 300 rpm
薄膜沉积均匀性 : 直径 200 mm 尺寸 ≤ 1 %
300 x 530 mm2 尺寸 ≤ 2 %
基准真空 : ≤ 5 x 10-8 mbar
设备尺寸(WxDxH) : 4.36 m x 3.96 m x 2.20 m
设备配置 : 1 工艺真空仓, 1 load-lock （可选）
软件接口 : SECS II / GEM, OPC
磁控溅射系统（MS） scia Magna 200
基底尺寸 : 200 mm
样品夹具 : 水冷, 旋转速率20 rpm，氦背向接触冷却RF 偏压
溅射源类型 : 双圈磁控管 DRM 400 （夫琅禾费FEP研究所提供）
溅射方式 : DC, RF, 单相& 双相脉冲形式
参考沉积速率: SiO2: 5 nm/s , Al2O3： 3nm/s
金属材料：15…25 nm/s
薄膜沉积均匀性 : 200 mm 直径尺寸 ＜ 0.5 % (1 sigma)
基准真空 : < 1 x 10-6 mbar
设备尺寸(W x D x H): 2.60 m x 2.00 m x 2.20 m
设备配置 : 单基片 load-lock, 小窗口盒式装载, 可随意更换或加载模块
软件接口 : SECS II / GEM, OPC
离子束刻蚀系统（IBE） scia Mill 150
scia Mill 150 不但可以用于惰性气体离子束刻蚀（IBE），还
可以应用于反应离子束刻蚀（RIBE）以及化学辅助离子束刻蚀
（CAIBE）。适合实验室研究及小批量产品加工。
技术参数
基底尺寸 ：直径150 mm
样品夹具 ：水冷, 氦背向接触冷却
离子源类型 ：条形微波源ECR-source
中和器 ：离子桥中和N-3DC
参考刻蚀速率 SiO2 ： ≥ 12 nm/min
机械运动装置 ：样品旋转速率 5 到 20 rpm
在线倾斜装置 0°到 90° , 0.1° 精度步进
基准真空 ：< 1x 10-6 mbar
设备尺寸(WxDxH) ：1.20 m x 2.80 m x 2.10 m( 含电子柜及真空泵)
设备配置 ：1 工艺真空仓, 1 load-lock 可选
软件接口 ：SECS II / GEM
离子束加工系统（IBT） scia Trim 200
晶片直径 ：100 mm, 125 mm, 150 mm, 200 mm
样品台 ：氦冷却背板，样品边缘机械承载
离子源 ：RF37-i
中和器 ：热灯丝N-Fil 或RF 离子中和桥 N-RF
参考去除速率 ：SiO2：3.8 x 10-3 mm3/s
机械轴运动性能 ：最大速率0.5 m/s, 最大加速度 15 m/s2
表面修正平整度 ： < 0.5 nm RMS
基准真空 ：< 1x 10-6 mbar
系统尺寸 (W x D x H) ：1.40 m x 2.80 m x 2.20 m
设备配置：1 工艺真空仓, 1 load-lock
2 工艺真空仓, 1 load-lock
2 工艺真空仓, 2 load-locks
软件接口 ：SECS II / GEM
更多详细资料点击下面链接，咨询电话：010-62527843
http://www.opturn.com/productsplist.asp?pid=173
材料