scia Coat 500双离子束溅射镀膜机，用于精密光学的大尺寸基板的高均匀性镀膜，菜单控制的沉积过程可保证镀膜质量的重复性。最多可以允许4种挡板，可以提高均匀性，也可以沉积设计的梯度薄膜。
常规属性
- 主离子源用于溅射靶材到样品基底上，沉积成膜；次离子源用于样品表面离子束轰击清洗或辅助镀膜。
- 可沉积介质和金属膜，用于光学滤波器、X射线反射镜、同步辐射镜等
- 可沉积渐变膜（比如Gobel 镜）
- 具有在线基底预处理 （刻蚀、清洗、平滑化）功能
- 通过基板旋转与线性运动的叠加，可以获得极好的沉积均匀性
- 转鼓靶架上最多可有6个水冷靶材料，用于在线更换
- 使用石英晶振和/或光学厚度监视器（OTM），菜单式控制多层膜沉积
- 通过线性轴运动控制系统，可以实现梯度薄膜沉积或表面误差校正
- 可选衬底加热至250°C以优化薄膜应力
系统性能
scia Coat 500 | |
样品基底尺寸（最大） | 500mm x 300mm |
样品台与样品夹具 | 线性运动速度 0.1 mm/min -- 15 mm/s, 旋转运动转速可达300 rpm (max. 300 mm dia.) |
溅射离子源 | 380 mm矩形微波ECR 源 (LIN380-e) |
辅助离子源 | 380 mm矩形微波ECR 源 (LIN380-e) |
中和器 | 热灯丝 (N-DC) 等离子体桥中和器 |
靶材转鼓 | 最多可装载6种靶材，400 mm x 200 mm。靶材水冷，可调倾斜。 |
典型沉积速率 | Si: 10 nm/min |
均匀性变化 | Φ 200 mm ：≤ 0.5 % (σ/mean) 500 mm x 300 mm ：≤ 2.0 % over (σ/mean) |
基础真空 | < 5 x 10-8 mbar |
系统尺寸 (W x D x H) | 3.30 m x 1.70 m x 2.00 m （不含电柜与真空泵） |
基本配置 | 单工作仓 |
软件界面 | SECS II / GEM, OPC |
可配置选项
- 可选单样品loadlock，适用于最大Φ 200 mm 样品。