离子束与等离子体及其控制，是scia的技术核心，其所有设备的独特之处，都在于此。
产品介绍
射频RF离子源采用ICP激发等离子体，内置RF匹配与产生器，具有多种圆形口径，最大直径450mm。 可移动的离子源，自带有射频匹配器，特别适合于离子束抛光的应用。
系统参数
scia 射频离子源 RF系列 | ||||
RF37-i/e | RF80-i | RF120-e | RF350-e | |
离子束直径 | Φ37mm | Φ80mm | Φ120mm | Φ350mm |
激发机制 | ICP 等离子体激发，内置 RF 匹配与产生器 | |||
300W，13.56MHz | 600W，13.56MHz | 1000W，13.56MHz | 1000W，4MHz | |
离子能量 | 100 - 2000eV | 200 - 1500eV | ||
放电室 | Al2O3 | 石英 | ||
栅网系统 | 3-grids | |||
栅网材料 | 石墨钼（平面或球面） | 石墨（平面或球面） | 高纯石墨 | |
离子束尺寸 | 离子焦斑 7-15mm (FWHM)， 密度达 25mA/cm2 | 离子束尺寸可由栅网调节 | ф200mm 口径内的均匀性 5% | |
优点 | 长工作时间免维护、高稳定性 可聚焦、可内置 | 长工作时间免维护、高稳定性 可聚焦、可内置 | 长工作时间免维护、高稳定性、外置 | |
应用 | 离子束修形 IBT/IBF 离子束刻蚀 IBE/IBM | 离子束修整 IBT/IBF | 离子束刻蚀 IBE/IBM 离子束溅射镀膜 | 离子束刻蚀 IBE/IBM 辅助镀膜 |