主要功能特点   


1.曝光类型:单面对准双面一次曝光;  

2.曝光面积:110×110mm  

3.曝光照度不均匀性:3%  

4.曝光强度:≥40mw/cm2可调;  

5.紫外光束角:≤3˚  

6.紫外光中心波长:365nm404nm435nm可选:  

7.紫外光源寿命:≥2万小时;  

8.曝光分辨率:1.5μm  

9.曝光模式:双面同时曝光;  

10.对准精度:对准精度6μm  

11对准范围:X:±5mm   Y:±5mm  

12.旋转范围:Q向旋转调节≥±5°;  

13.最大升降:≥16mm  

14.密着曝光方式:密着曝光可实现硬接触、软接触和微力接触曝光;  

15.显微系统:双视场CCD系统,显微镜45X300X连续变倍,显微镜扫描范围:X:±40mmY:±35mm;双物镜距离可调范围:11mm100mm,计算机图像处理系统,19″液晶监视器;  

16.掩模版尺寸:3″×3″、4″×4″、5″×5″;  

17.基片尺寸:φ2″、φ3″、φ4″;  

18.基片厚度:≤5 mm  

19.曝光定时:0999.9秒可调;  

20. 电源:单相AC220V  50HZ ,功耗≤1.5KW  

21.洁净压缩空气压力:≥0.4MPa  

22.真空度:-0.07MPa~-0.09MPa  

23.尺寸: 985mm(长)×680mm(宽)×1800mm(高);  

24.重量:约190Kg  

主要用途:
    主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路的研制和生产。

工作方式:
    本机采用版—版对准双面同时曝光方式,亦可用于单面曝光。

主要构成:
    主要由高精度对准工作台、Z轴升降机构、双视场CCD显微显示系统)、二台多点光源蝇眼式曝光头、真空管路系统、气路系统、直联式真空泵、防震工作台等组成。
 

   

CCD显微系统|X、Y、Q对准工作台|Z轴升降机构