该设备体积小、操作简单、清洗效果显著且耗时少等优点,;非常适合实验室用于处理硅片、玻璃等原样;通过等离子撞击 刻蚀除去材料表面的有机物、无机物、氧化物等从而得到新鲜的界面。
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