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Obducat纳米压印EITRE® 3
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产品品牌：
Obducat
交货周期：
1-3个月
产品简介：
传统光刻技术是利用电子和光子改变光刻胶的物理化学性质，进而得到相应的纳米图形。NIL技术却可以不使用电子和光子，直接利用物理机理机械地在光刻胶上构造纳米尺寸图形。目前NIL技术已经可以制作线宽在5nm以下的图案。鉴于其技术优势，NIL可应用于微电子器件、信息存储器件、微反应器、微/纳机电系统、传感器、微/纳流控器件、生物医用界面、光学及光子学材料等众多领域。
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冠乾科技（上海）有限公司
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极限压强 (pa)
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