型号产品概述TF1200XRIS是款双温区红外加热快速热处理炉,其片管直径为4英寸。此款设备可使样品最大升温速率达到50c5,此款设备不仅可对样品进行快速热处理,还可采用 HPCVD方法来生长二维晶体(一个加热区用来至放固体蒸发原料,另一个加热区用于沉积样品
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