型号TF-1200X-Ⅲ-R5- PECVD TF1200XⅢR5 PECVD是款1200℃等离子墙虽化学气相沉积三温区回转管式种系统( R-PECVD),等离子增强系统的引入可在相对较低的温度下实现粉末表面的包表复合、核壳构制等工艺过程。自动进出料系统可实现连生产,可保证在气氛保护环境下进行粉体的进给和收集,包含射烦电源(带自动匹配功能)、四通道质子星计控制系统及真空泵系统,可由PLC触摸异或P
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