这款高压PVD系统配置适合在晶圆溅射金属膜,磁性材料,多组分氧化物,得益于它灵活的配置和特殊的晶圆加热器设计,PVD可以在温度最高900℃的衬底上溅射金属膜层和磁性材料,最大容纳晶圆直径为150mm,订制后最大可容纳200mm直径晶圆。
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